; 例如，在化学机械抛光 (CMP) 后清洗 (PCMP) 过程中，即使是十亿分之一浓度的痕量金属污染也会引入可靠性风险，例如介电击穿和腐蚀。因此，如果工艺设计无法应对持续运行中的变异性和污染控制，那么在试验阶段表现良好的工艺在量产阶段可能会失败。 &n
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发布时间：04:40:28
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